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J-GLOBAL ID：200903017831972144
パターン転写装置、パターン転写方法およびプログラム
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
佐藤 隆久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003130833
Publication number (International publication number)：2004335808
Application date： May. 08, 2003
Publication date： Nov. 25, 2004
Summary：
【課題】被転写体の歪みに合わせて転写パターンを補正することができ、被転写体との重ね合わせ精度を向上させることができるパターン転写装置、パターン転写方法およびプログラムを提供する。【解決手段】被転写体12に対するモールド20の姿勢を制御して、モールド20のパターンを押圧した際に得られる転写パターンを変位させることが可能となっている。このモールド20の姿勢としては、モールド20を任意のオイラー角により回転させて達成することにより、全ての姿勢が得られる。このような姿勢をもってモールド20を被転写体12に対し押圧することにより、モールド20のパターンを被転写体12に投影させたのと実質的に等しい転写パターンが得られる。従って、被転写体12の下地のチップのパターンの歪み、例えば非直交性やX,Y方向の倍率差をもった歪みに追従した転写パターンが得られる。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
モールドに形成されたパターンを被転写体に押圧して、転写するパターン転写装置であって、
被転写体に対するモールドの姿勢を制御して、前記モールドのパターンを押圧した際に得られる前記転写パターンを変位させる姿勢制御手段と、
前記被転写体に対し前記モールドを前記姿勢をもって押圧する押圧手段と
を有するパターン転写装置。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L21/30 502D
, B41F16/00 J
