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J-GLOBAL ID：200903017839363961

イオンビーム加工装置

Inventor： 岩崎 浩二
Applicant, Patent owner： セイコーインスツルメンツ株式会社
Agent (1)： 林 敬之助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997121270
Publication number (International publication number)：1998074737
Application date： Jan. 11, 1988
Publication date： Mar. 17, 1998
Summary：

【要約】【課題】 有機化合物ガス吹付けのためのノズルを備えた集束イオンビーム加工装置において、有機化合物がノズルの孔に詰まらせることがあった。【解決手段】 ノズルの孔にガス成分が吸着するのを防止するために、ノズル部に、ノズルを加熱するヒータを設け、ガス成分の吸着を防止する。

Claim (excerpt)：

試料に集束イオンビームを照射するイオンビーム照射系と、前記試料を載置し、X-Y-Z方向に駆動する試料台と、前記集束イオンビームの照射位置に有機化合物ガスを吹き付けるノズルを備えたガス吹付装置と、前記ノズルの孔の詰まりを防止するためのノズル近傍に備えられたヒータとからなることを特徴とするイオンビーム加工装置。

IPC (9)：

H01L 21/3065 ,  C23C 16/48 ,  C23F 4/00 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/305 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/66 ,  H01L 21/3205

FI (9)：

H01L 21/302 D ,  C23C 16/48 ,  C23F 4/00 C ,  G21K 5/04 A ,  H01J 37/305 A ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285 C ,  H01L 21/66 C ,  H01L 21/88 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭62-229956
  
• 特開昭61-004231