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J-GLOBAL ID:200903017842682121
遠隔操作方法および半導体露光装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
伊東 哲也 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997219746
Publication number (International publication number):1998172903
Application date: Aug. 01, 1997
Publication date: Jun. 26, 1998
Summary:
【要約】【課題】 本発明の目的は、作業者が半導体露光装置での作業中に不意にオンライン接続されたホストコンピュータから半導体露光装置に対する遠隔操作が行われることによって発生するさまざまな危険を防止し、円滑な遠隔操作を可能とする半導体露光装置および遠隔操作方法を提供することにある。【構成】 1台あるいは複数台の半導体露光装置をオンライン操作可能なホストコンピュータからオンライン操作される半導体露光装置において、半導体露光装置に個別の遠隔操作禁止手段を設ける。また、危険防止機能の解除等の特定のコマンドに連動して自動的にオンライン操作禁止機能が作動する機能を設ける。
Claim (excerpt):
1台あるいは複数台の半導体露光装置を遠隔操作可能な遠隔操作装置から遠隔操作される半導体露光装置の遠隔操作方法において、前記半導体露光装置が必要に応じて個別に前記遠隔操作を禁止することを特徴とする遠隔操作方法。
IPC (2):
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
FI (2):
H01L 21/30 502 G
, G03F 7/20 521
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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特開平4-305913
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半導体製造装置およびデバイス製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-330946
Applicant:キヤノン株式会社
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半導体製造装置およびデバイス製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-317752
Applicant:キヤノン株式会社
-
半導体製造装置およびデバイス製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-317754
Applicant:キヤノン株式会社
-
半導体露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-150622
Applicant:キヤノン株式会社
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特開平2-294013
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特開昭60-032530
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特開昭60-002034
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特開昭60-002035
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生産支援システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-003081
Applicant:株式会社日立製作所
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