Pat
J-GLOBAL ID:200903017864245310

炎症プロセスおよび転移プロセスの調節

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 山本 秀策 ,  安村 高明 ,  森下 夏樹
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2006554253
Publication number (International publication number):2007523185
Application date: Feb. 18, 2005
Publication date: Aug. 16, 2007
Summary:
細胞接着および転移プロセスに関連した障害の治療における構造(I)を有する化合物または該化合物の塩または互変異性体を使用する方法が本明細書中で提示されている。この障害としては、癌、自己免疫疾患、喘息、アレルギー、湿疹、微生物感染、外傷性損傷(例えば、火傷または切り傷)、狼瘡、関節炎、循環器病(例えば、脳卒中および虚血性傷害)、呼吸器細菌およびウイルス感染、および炎症応答に関連した他の病態が挙げられ得る。
Claim (excerpt):
被験体における炎症応答を調節するかおよび/または細胞接着を減らす方法であって、該方法は、以下の工程を包含する:該被験体に、構造Iの化合物、該化合物の互変異性体、該化合物の薬学的に受容可能な塩、該互変異性体の薬学的に受容可能な塩、またはそれらの混合物を投与する工程であって、ここで、投与後、該炎症応答は、該被験体において、調節されるか、および/または細胞接着は、該被験体において、減らされ、そして構造Iは、次式を有する:
IPC (6):
A61K 31/496 ,  A61P 35/00 ,  A61P 35/04 ,  A61P 29/00 ,  C07D 401/04 ,  A61P 43/00
FI (6):
A61K31/496 ,  A61P35/00 ,  A61P35/04 ,  A61P29/00 ,  C07D401/04 ,  A61P43/00 105
F-Term (15):
4C063AA01 ,  4C063BB01 ,  4C063CC14 ,  4C063DD26 ,  4C063EE01 ,  4C086AA01 ,  4C086AA02 ,  4C086BC50 ,  4C086GA07 ,  4C086MA01 ,  4C086MA04 ,  4C086NA14 ,  4C086ZB11 ,  4C086ZB21 ,  4C086ZB26
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
  • 米国特許第6,605,617号明細書
  • 米国特許第6,756,383号明細書
  • 米国特許出願第2003/0028018号明細書
Show all
Cited by examiner (4)
Show all
Article cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

Return to Previous Page