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J-GLOBAL ID:200903017938225015

磁気記録媒体の製造方法およびその製造装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岩橋 文雄 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999247502
Publication number (International publication number):2001067657
Application date: Sep. 01, 1999
Publication date: Mar. 16, 2001
Summary:
【要約】【課題】 保護膜形成時に極微小欠陥の顕在化を撲滅すると共に、磁性層と保護膜との密着強度をより高めることにより、ドロップアウトを低減し、耐食性を向上した磁気記録媒体の製造方法およびその製造装置を提供すること。【解決手段】 非磁性基材(1)上に積層した強磁性金属薄膜(2)上に、炭化水素を含有する反応ガスからプラズマCDV法により保護膜(4)を形成する磁気記録媒体(20)の製造方法であって、前記プラズマCDV法において反応ガスに正の直流電圧(V1)と負の直流電圧(V2)とを交互に印加することを特徴とする、磁気記録媒体(20)の製造方法。
Claim (excerpt):
非磁性基材(1)上に積層した強磁性金属薄膜(2)上に、炭化水素を含有する反応ガスからプラズマCVD法により保護膜(4)を形成する磁気記録媒体(20)の製造方法であって、前記プラズマCVD法において反応ガスに正の直流電圧(V1)と負の直流電圧(V2)とを交互に印加することを特徴とする、磁気記録媒体(20)の製造方法。
IPC (2):
G11B 5/84 ,  C23C 16/503
FI (2):
G11B 5/84 B ,  C23C 16/503
F-Term (16):
4K030AA09 ,  4K030BA28 ,  4K030CA07 ,  4K030CA17 ,  4K030FA03 ,  4K030GA14 ,  4K030HA04 ,  4K030JA11 ,  4K030JA17 ,  4K030JA18 ,  4K030KA30 ,  4K030LA20 ,  5D112AA07 ,  5D112BC05 ,  5D112FA10 ,  5D112FB08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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