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J-GLOBAL ID：200903017948123067

金属化合物薄膜の成膜方法及びそのパタ-ニング方法

Inventor： 時田 浩司 ,  岡田 文雄
Applicant, Patent owner： 株式会社ジャパンエナジー
Agent (1)： 並川 啓志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995091989
Publication number (International publication number)：1996134654
Application date： Mar. 27, 1995
Publication date： May. 28, 1996
Summary：

【要約】【構成】 単独または複数の有機金属化合物の蒸気ガスまたはこの蒸気ガスと反応ガスとの混合ガスに、前記有機金属化合物に吸収を有する波長の電磁波を照射することにより、加熱していない基板上に金属化合物を成膜する方法、及び電磁波の照射部分と非照射部分を形成しながら照射することにより基板上に金属化合物のパターニングをする方法。【効果】 薄膜面内の所望の部分にのみ機能を持った薄膜の成膜が可能となる。

Claim (excerpt)：

単独または複数の有機金属化合物の蒸気ガスまたは前記蒸気ガスと反応ガスとの混合ガスに、前記有機金属化合物に吸収を有する波長の電磁波を照射することにより、加熱していない基板上で、前記蒸気ガス、あるいは前記蒸気ガスと反応ガスを反応させ成膜することを特徴とする金属化合物薄膜の成膜方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平3-237097
  
• 特開平2-200782
  
• 特開昭59-129773