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J-GLOBAL ID：200903017975469951

ガス噴射による表面処理方法および表面処理装置

Inventor： 鶴巻 直哉 ,  桜木 俊一
Applicant, Patent owner： 株式会社小松製作所
Agent (1)： 木村 高久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994134467
Publication number (International publication number)：1996000990
Application date： Jun. 16, 1994
Publication date： Jan. 09, 1996
Summary：

【要約】【目的】薄膜処理等の表面処理の品質向上と作業効率の向上を図る。【構成】被処理対象15の表面に噴射すべきガス6が、加熱手段5によって加熱、プラズマ化され、高反応性状態(励起状態、活性状態)となる。そして、加熱、プラズマ化されたガスがラバールノズル1によって断熱膨張されて音速よりも大きい流速にされる。そして、この音速よりも大きい流速にされたガス7が被処理対象15の表面に向けて噴射される。こうして、加熱、プラズマ化され高反応性状態となったガス7が、噴射対象である被処理対象15まで超音速で短時間内に到達する。

Claim (excerpt)：

被処理対象の表面にガスを噴射することにより前記被処理対象の表面処理を行うガス噴射による表面処理方法において、前記被処理対象の表面に噴射すべきガスを加熱、プラズマ化する工程と、前記加熱、プラズマ化されたガスを断熱膨張させて音速よりも大きい流速にする工程と、前記音速よりも大きい流速にされたガスを前記被処理対象の表面に向けて噴射させる工程とを具えたガス噴射による表面処理方法。