タンタルチタンダブルエトキシドとその製法およびそれを用いた酸化物膜の製法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000280950
Publication number (International publication number)：2002053504
Application date： Aug. 11, 2000
Publication date： Feb. 19, 2002
Summary：

【要約】【課題】絶縁性のよいTiO2含有Ta2O5膜をCVD法で形成するための1液の金属アルコキシド原料化合物および組成物を提供する。さらにその製法およびそれを用いた成膜方法を提供する。【解決手段】新規化合物であるタンタルチタンダブルエトキシドTaTi(OEt)9あるいはTaTi(OEt)9を含有するTa(OEt)5は、室温で一液体であり、その気化特性や熱分解特性は、一成分のようにふるまう。Ta(OEt)5とTi(OEt)4を混合加熱後、減圧蒸留することにより、パーティクルのないTaTi(OEt)9あるいはTaTi(OEt)9を含有するTa(OEt)5を製造する。これを液体マスフローコントローラーで供給し、気化させ、酸素を含んだ雰囲気、600°CでCVDすることにより、アモルファス状のTiO2含有Ta2O5膜を組成の再現性よく形成できる。

Claim (excerpt)：

TaTi(OC2H5)9で表されるタンタルチタンダブルエトキシド。

IPC (5)：

C07C 31/28 , C07F 7/28 , C07F 19/00 , C23C 16/40 , H01L 21/316

FI (5)：

C07C 31/28 , C07F 7/28 B , C07F 19/00 , C23C 16/40 , H01L 21/316 X

F-Term (40)：

4H006AA01 , 4H006AA02 , 4H006AB78 , 4H006AB91 , 4H006AC42 , 4H006AD11 , 4H006BC10 , 4H049VN05 , 4H049VP01 , 4H049VQ21 , 4H049VR41 , 4H049VR42 , 4H049VR43 , 4H049VS21 , 4H049VU24 , 4H049VW02 , 4H049VW05 , 4H050AA01 , 4H050AA03 , 4H050AB78 , 4H050AB91 , 4H050AB99 , 4H050AD11 , 4H050WB13 , 4H050WB21 , 4K030AA11 , 4K030BA17 , 4K030BA42 , 4K030BA46 , 4K030BB05 , 4K030CA06 , 4K030CA12 , 4K030FA10 , 4K030JA05 , 4K030KA39 , 4K030LA15 , 5F058BA11 , 5F058BC03 , 5F058BF04 , 5F058BF27

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

特開平2-128460
特開昭60-017177

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