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J-GLOBAL ID：200903017985250389
基板型抵抗・温度ヒュ-ズ
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
松月 美勝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994165901
Publication number (International publication number)：1996007731
Application date： Jun. 24, 1994
Publication date： Jan. 12, 1996
Summary：
【要約】【目的】トリミングにより調整した膜抵抗の抵抗値を、課電のオン,オフを繰り返しても、充分一定に保持できる基板型抵抗・温度ヒュ-ズを提供する。【構成】セラミック基板1上に低融点金属体4と膜抵抗6とを設け、該膜抵抗6は、抵抗ぺ-ストの印刷・焼付けにより形成した膜抵抗体60を第1のガラス層61で被覆したのち、レ-ザ-トリミングで抵抗値調整することにより設け、この膜抵抗上に第2のガラス層62を設け、該膜抵抗と上記の低融点金属体とを覆って上記セラミック基板に樹脂7を被覆した。
Claim (excerpt)：
セラミック基板上に低融点金属体と膜抵抗とを設け、該膜抵抗は、抵抗ぺ-ストの印刷・焼付けにより形成した膜抵抗体を第1のガラス層で被覆したのち、レ-ザ-トリミングで抵抗値調整することにより設け、この膜抵抗上に第2のガラス層を設け、該膜抵抗と上記の低融点金属体とを覆って上記セラミック基板に樹脂を被覆したことを特徴とする基板型抵抗・温度ヒュ-ズ。
Patent cited by the Patent：
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