Pat
J-GLOBAL ID：200903018043248121
レーザーの操作方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：
庄司 隆
, 資延 由利子
, 大杉 卓也
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2006517960
Publication number (International publication number)：2007506472
Application date： Jul. 09, 2004
Publication date： Mar. 22, 2007
Summary：
本発明は照射レーザーの操作方法に関し、レーザーパルス配列、または長さが異なるパルスが、適用の間に、記録された過渡応答の比較可能性が保持される様に修正される。【選択図】 図3e
Claim (excerpt)：
以下のステップを特徴とする、生物組織照射レーザーの操作方法:
-有限継続時間のレーザーパルス配列を適用すること(集中照射)であって、各場合に、各々が少なくとも1のパルスを含む、少なくとも2の時系列的に適用される部分パルス配列を含み、その場合に、
第1の部分パルス配列は、所定の、低パルスエネルギー水準から開始して、単調に増大するパルスエネルギーを持ち、また
第2の部分パルス配列は、前記第1のパルス配列の終値に近接する実質的に一定のパルスエネルギーを持ち、
-前記第1の部分パルス配列の適用の間、照射区域において任意の泡形成を検出すること、
-組織中に泡形成が検出されると直ちに前記第1のパルス配列を終結し、かつ、前記第2のパルス配列を開始すること。
IPC (1)：
FI (1)：
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
Show all
Return to Previous Page
