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J-GLOBAL ID：200903018057141176

ドライ現像用感放射線性樹脂組成物

Inventor： 加藤 一憲 ,  高木 正広 ,  高橋 俊彦 ,  柳原 健児
Applicant, Patent owner： 日本合成ゴム株式会社
Agent (1)： 福沢 俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992182936
Publication number (International publication number)：1994003819
Application date： Jun. 18, 1992
Publication date： Jan. 14, 1994
Summary：

【要約】【目的】 KrFエキシマレーザー等の遠紫外線を含めた各種放射線に対して適用することができる、高感度且つ高解像度のドライ現像用感放射線性樹脂組成物を提供する。【構成】 (1)フェノール性水酸基含有樹脂と1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル化合物、および/または(2)フェノール性水酸基含有樹脂中のフェノール性水酸基の一部を1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル化した樹脂を含有することを特徴とするドライ現像用感放射線性樹脂組成物。

Claim (excerpt)：

(1)フェノール性水酸基含有樹脂と1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル化合物、および/または(2)フェノール性水酸基含有樹脂中のフェノール性水酸基の一部を1,2-ナフトキノンジアジド-4-スルホン酸エステル化した樹脂を含有することを特徴とするドライ現像用感放射線性樹脂組成物。

IPC (3)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/36 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 301 R ,  H01L 21/30 361 N

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平2-005060
  
• 特開平2-127645
  
• 特開平3-154058
  
• 特開平1-210944