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J-GLOBAL ID：200903018062099900

露光量制御方法

Inventor： 小澤 謙
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997030645
Publication number (International publication number)：1998229038
Application date： Feb. 14, 1997
Publication date： Aug. 25, 1998
Summary：

【要約】【課題】 ウエハ上のショット領域の位置(露光位置)による光軸ずれ等に起因する露光量の変動を正確に補正する。【解決手段】 実際の露光に先立ち、露光対象のウエハのショットマップに従ってショット毎の露光量制御を行うことなく評価用の露光を行って、ショット領域毎にインテグレータセンサを介して平均パルスエネルギーp(i)を計測する。そして、設定パルスエネルギーS0 /Nをその平均パルスエネルギーp(i)で除算することによって、i番目のショット領域に対するパルスエネルギーの補正係数t(i)(=S0 /(p(i)・N))を算出して、補正マップを作成する。実際にi番目のショット領域に露光する際には、補正前の調整量にその補正係数t(i)を乗じて得られる調整量をエネルギー微調器での調整量とする。

Claim (excerpt)：

露光用光源からの照明光でマスクを照明し、前記照明光のもとで前記マスクに形成されたパターンを感光基板上の所定のショット領域に順次転写露光する露光装置で、前記所定のショット領域に対する前記照明光の露光量を制御する露光量制御方法において、予め前記所定のショット領域に対応するショットマップに従って前記露光装置を用いて評価用の露光を行ってそれぞれ露光量を計測することによって、前記所定のショット領域毎に適正露光量を与えるための露光量の補正マップを作成しておき、露光対象の感光基板上の前記所定のショット領域に露光を行う際に、前記補正マップを用いてそれぞれ露光量を補正することを特徴とする露光量制御方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 521

FI (4)：

H01L 21/30 516 D ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 518