Pat
J-GLOBAL ID:200903018069766414
放射線撮像装置及びシステム
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
山下 穣平
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001180256
Publication number (International publication number):2002116261
Application date: Jun. 14, 2001
Publication date: Apr. 19, 2002
Summary:
【要約】【課題】 放射線撮像装置及びシステムを軽量化する。【解決手段】 放射線を電気信号に変換して撮像する撮像素子と、前記撮像素子に電気的に接続され、該撮像素子への入力信号を制御する回路或いは該撮像素子からの出力信号を処理する回路のうち少なくともいずれか一方を備えた回路基板と、前記回路基板に設けられ、前記回路を構成している能動素子と、前記能動素子への前記放射線の入射を妨げる放射線遮蔽部材とを備えた放射線撮像装置において、前記放射線遮蔽部材は、その面積が前記回路基板の面積より小さいことを特徴とする。
Claim (excerpt):
放射線を電気信号に変換して撮像する撮像素子と、前記撮像素子に電気的に接続され、該撮像素子への入力信号を制御する回路或いは該撮像素子からの出力信号を処理する回路のうち少なくともいずれか一方を備えた回路基板と、前記回路基板に設けられ、前記回路を構成している能動素子と、前記能動素子への前記放射線の入射を妨げる放射線遮蔽部材とを備えた放射線撮像装置において、前記放射線遮蔽部材は、その面積が前記回路基板の面積より小さいことを特徴とする放射線撮像装置。
IPC (7):
G01T 7/00
, G01T 1/20
, G01T 1/24
, H01L 27/14
, H01L 31/09
, H04N 5/32
, H04N 5/335
FI (7):
G01T 7/00 A
, G01T 1/20 E
, G01T 1/24
, H04N 5/32
, H04N 5/335 U
, H01L 31/00 A
, H01L 27/14 K
F-Term (47):
2G088EE01
, 2G088FF02
, 2G088GG19
, 2G088GG20
, 2G088GG21
, 2G088JJ05
, 2G088JJ09
, 2G088JJ29
, 2G088JJ33
, 2G088JJ36
, 2G088JJ37
, 4M118AA10
, 4M118AB01
, 4M118AB10
, 4M118BA04
, 4M118BA05
, 4M118BA10
, 4M118BA14
, 4M118CB02
, 4M118CB11
, 4M118FA06
, 4M118FA08
, 4M118FB08
, 4M118FB09
, 4M118GA10
, 4M118GB04
, 4M118HA21
, 4M118HA25
, 4M118HA26
, 5C024AX11
, 5C024AX12
, 5C024AX16
, 5C024CY04
, 5C024CY47
, 5C024CY50
, 5C024EX21
, 5F088AA09
, 5F088AB05
, 5F088BA13
, 5F088BB04
, 5F088BB07
, 5F088EA04
, 5F088JA16
, 5F088KA03
, 5F088KA08
, 5F088LA07
, 5F088LA08
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
-
光電変換装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-027838
Applicant:キヤノン株式会社
-
半導体装置及び光検出装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-268628
Applicant:キヤノン株式会社
-
X線を用いた計測装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-177552
Applicant:株式会社日立メディコ
-
撮像装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-241562
Applicant:キヤノン株式会社
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Cited by examiner (4)
-
光電変換装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-027838
Applicant:キヤノン株式会社
-
半導体装置及び光検出装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-268628
Applicant:キヤノン株式会社
-
X線を用いた計測装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-177552
Applicant:株式会社日立メディコ
-
撮像装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-241562
Applicant:キヤノン株式会社
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