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J-GLOBAL ID：200903018076708683

チタン酸ジルコン酸鉛系薄膜の製造方法

Inventor： 鳥居 和功 ,  加賀 徹 ,  櫛田 恵子 ,  武田 英次
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991197722
Publication number (International publication number)：1993043242
Application date： Aug. 07, 1991
Publication date： Feb. 23, 1993
Summary：

【要約】【目的】チタン酸ジルコン酸鉛系固溶体の薄膜の組成を再現性良く、精密に制御する方法を提供する。【構成】スパッタ法によりチタン酸ジルコン酸鉛系固溶体の薄膜を形成する際、高周波電力を調整することにより、所望の組成の薄膜を得る。【効果】簡単に、再現性よく所望の組成のチタン酸ジルコン酸鉛系固溶体の薄膜を薄膜を作成することが可能となる。

Claim (excerpt)：

チタン酸ジルコン酸鉛 Pb(ZrxTi1-x)O3 を主成分とする薄膜を高周波スパッタリング法により形成する際に、薄膜中の鉛の組成を高周波電力により制御することを特徴とするチタン酸ジルコン酸鉛系薄膜の製造方法。

IPC (3)：

C01G 25/00 ,  H01L 37/00 ,  H01L 41/187