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J-GLOBAL ID：200903018078987067

表面にパターニングを行う装置および方法

Inventor： ジョージ・エヌ・マラカス ,  ロナルド・エヌ・レジー ,  ハーバート・ゴロンキン ,  ローレンス・エヌ・ドワスキー
Applicant, Patent owner： モトローラ・インコーポレイテッド
Agent (1)： 大貫 進介 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997063756
Publication number (International publication number)：1998012545
Application date： Mar. 03, 1997
Publication date： Jan. 16, 1998
Summary：

【要約】【課題】 対象物(30)の表面にパターニングを行う装置(95)および方法を提供する。【解決手段】 装置(95)は、対象物(30)の表面上に形成された、レジスト物質層(32)の表面(34)上に、分子種(38)の自己集合単分子層(36)(SAM)を形成するための大面積スタンプ(50)を含む。大面積スタンプ(50)は、エラストマ層(52)を含み、その中に機械的構造体(68,80)が埋め込まれている。機械的構造体(68,80)は、大面積スタンプ(50)を補強し、それを変形してスタンプされるパターンを制御する。本発明の方法は、対象物(30)の表面上にレジスト物質層(32)を形成する段階、大面積スタンプ(50)を用いてレジスト物質層(32)の表面(34)上にSAM(36)を形成する段階、レジスト物質層(32)にエッチングを行う段階、およびその後に対象物(30)の表面にエッチングまたはメッキを施す段階から成る。

Claim (excerpt)：

対象物(30)の表面にパターニングを行う方法であって:第1および第2対向面(54,56)を有する可撓性物質層(52)を用意する段階;前記可撓性物質層(52)の前記第1対向面(54)にレリーフ(58)を形成する段階であって、前記レリーフ(58)は、第1の所定パターンを規定する複数の接触面(60)を有し、前記レリーフ(58)は第2の所定パターンを規定する押込(62)を含む前記段階;自己集合単分子層形成分子種(38)を含有する溶液で、前記複数の接触面(60)を濡らすことにより、複数の濡れた接触面を設ける段階;前記対象物(30)の表面上に、前記自己集合単分子層形成分子種(38)が結合する外面(34)を有する、レジスト物質層(32)を形成する段階;その後、前記複数の濡れた接触面を、前記レジスト物質層(32)の前記外面(34)と接触させる段階;その後、前記複数の接触面(60)を除去することにより、前記レジスト物質層(32)の前記外面(34)上に、前記自己集合単分子層形成分子種(38)の自己集合単分子層(36)を形成し、かつ前記第2の所定パターンを有する前記レジスト物質層(32)の前記外面(34)の露出領域を設ける段階;および前記自己集合単分子層(36)に対しては不活性なエッチャントを用いて、前記レジスト物質層(32)の前記外面(34)の露出領域にエッチングを行うことにより、前記第2の所定パターンを有する前記対象物(30)の表面の露出領域を設ける段階;から成ることを特徴とする方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/3065

FI (2)：

H01L 21/30 561 ,  H01L 21/302 H