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J-GLOBAL ID：200903018082450795

有機ハロゲン化合物汚染物の脱ハロゲン化浄化方法

Inventor： 下村 達夫 ,  片岡 直明 ,  北嶋 宣光
Applicant, Patent owner： 株式会社荏原製作所
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998223123
Publication number (International publication number)：1999239783
Application date： Aug. 06, 1998
Publication date： Sep. 07, 1999
Summary：

【要約】【課題】 有機ハロゲン化合物汚染物の還元脱ハロゲン反応において、水溶性の還元剤を添加することにより、経済的かつ効率的に脱ハロゲン化を行う浄化方法を提供する。【解決手段】 有機ハロゲン化合物汚染物を浄化する方法において、該汚染物に標準電極電位が+130mV以下、-2400mV以上の水溶性のリン酸化合物、硫黄化合物、重金属塩、有機酸化合物のいずれかまたはその混合物を添加し、還元条件で分解浄化することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

有機ハロゲン化合物汚染物を浄化する方法において、該汚染物に標準電極電位が+130mV以下、-2400mV以上の水溶性のリン酸化合物、硫黄化合物、重金属塩、有機酸化合物のいずれかまたはその混合物を添加し、還元条件で分解浄化することを特徴とする有機ハロゲン化合物汚染物の脱ハロゲン化浄化方法。

IPC (9)：

B09C 1/02 ,  B09C 1/08 ,  A62D 3/00 ZAB ,  B09B 3/00 ZAB ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/70 ,  C02F 3/00 ,  C02F 11/02 ,  C02F 11/12

FI (8)：

B09B 3/00 304 K ,  A62D 3/00 ZAB ,  C02F 1/58 A ,  C02F 1/70 Z ,  C02F 3/00 D ,  C02F 11/02 ,  C02F 11/12 E ,  B09B 3/00 ZAB