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J-GLOBAL ID：200903018092694595

ネガ型フォトレジスト組成物

Inventor： 植田 裕治 ,  竹山 尚幹 ,  植木 裕美 ,  楠本 武宏 ,  中野 由子
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992221373
Publication number (International publication number)：1994067413
Application date： Aug. 20, 1992
Publication date： Mar. 11, 1994
Summary：

【要約】【目的】 遠紫外線(特にKr Fエキシマーレーザー)リソグラフィに適し、且つ、諸性能(解像度、感度、残膜率、プロファイル及び耐熱性等)に優れ、しかも定在波効果の小さいネガ型フォトレジスト組成物を提供する。【構成】 p-ヒドロキシスチレンとスチレンとの共重合により得られる樹脂A及びポリ(p-ヒドロキシスチレン)を水素添加した樹脂Bの混合物を含むアルカリ可溶性樹脂、酸発生剤並びに架橋剤を含有するネガ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

p-ヒドロキシスチレンとスチレンとの共重合により得られる樹脂A及びポリ(p-ヒドロキシスチレン)を水素添加した樹脂Bの混合物を含むアルカリ可溶性樹脂、架橋剤並びに酸発生剤を含有してなるネガ型フォトレジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/038 505 ,  H01L 21/027