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J-GLOBAL ID：200903018114234879

ガス浄化装置

Inventor： 林 佑二 ,  若月 昇
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 宇井 正一 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993080745
Publication number (International publication number)：1994262032
Application date： Apr. 07, 1993
Publication date： Sep. 20, 1994
Summary：

【要約】【目的】 ガス浄化装置に関し、比較的に小型で、比較的に低電圧でグロー放電を生じさせることができ、かつ、プラズマの作用と触媒の作用とを相乗的に組合わせることのできるガス浄化装置を提供することを目的とする。【構成】 ガスの流れのための少なくとも2つの開口部18、20を有するケース12と、該ケース内に配置され、少なくとも一対の対向する接点部14a、16aを有する磁気感応リード14、16と、該少なくとも一対のリードの接点部を互いに開かせあるいは閉じさせるための駆動用コイル22と、該少なくとも一対のリードに接続された接点負荷用コイル30と、該少なくとも一対のリードの接点部の少なくとも近傍に担持された触媒26、28とを備える構成とする。

Claim (excerpt)：

ガスの流れのための少なくとも2つの開口部(18、20)を有するケース(12)と、該ケース内に配置され、少なくとも一対の対向する接点部(14a、16a)を有する磁気感応リード(14、16)と、該少なくとも一対のリードの接点部を互いに開かせあるいは閉じさせるための駆動用コイル(22)と、該少なくとも一対のリードに接続された接点負荷用コイル(30)と、該少なくとも一対のリードの接点部の少なくとも近傍に担持された触媒(26、28、41)とを備えることを特徴とするガス浄化装置。

IPC (5)：

B01D 53/32 ZAB ,  B01D 53/36 ZAB ,  B01D 53/36 104 ,  B01J 23/40 ZAB ,  F01N 3/08