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J-GLOBAL ID：200903018127457427

プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置

Inventor： 吉岡 健 ,  金井 三郎 ,  加治 哲徳 ,  西尾 良司 ,  枝村 学
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 作田 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001109408
Publication number (International publication number)：2001358131
Application date： May. 20, 1996
Publication date： Dec. 26, 2001
Summary：

【要約】【課題】高周波のプラズマにより処理をする装置においては、異物を生じさせることなく、ウエハ面上に均一なプラズマを形成できない課題が有った。【解決手段】高周波を通じるループアンテナ(3)と、ループアンテナ(3)をとり囲んで構成された空洞共振器(4),空度共振器(4)のプラズマに面する側に2重構造スリット(5)を設けたことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

試料をプラズマにより処理する方法において、前記プラズマの密度分布を独立に制御することを特徴とするプラズマ処理方法。

IPC (5)：

H01L 21/3065 ,  C23C 16/511 ,  C23C 16/52 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46

FI (5)：

C23C 16/511 ,  C23C 16/52 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 B ,  H01L 21/302 B

F-Term (21)：

4K030CA04 ,  4K030FA02 ,  4K030JA18 ,  4K030KA30 ,  4K030KA41 ,  5F004AA01 ,  5F004AA16 ,  5F004BA14 ,  5F004BA20 ,  5F004BB07 ,  5F004BB14 ,  5F004BC08 ,  5F045AA09 ,  5F045AA10 ,  5F045EC01 ,  5F045EH02 ,  5F045EH03 ,  5F045EH04 ,  5F045EH08 ,  5F045EH17 ,  5F045EH19