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J-GLOBAL ID：200903018144539232
投影露光装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991182557
Publication number (International publication number)：1993029194
Application date： Jul. 23, 1991
Publication date： Feb. 05, 1993
Summary：
【要約】【目的】 オフ・アクシス方式のアライメント系をもつ投影露光装置のベースライン管理を高精度に行なう。【構成】ウェハステージの位置計測用のレーザ干渉計として、投影レンズに対してアッベ条件を満す1組(X、Y方向用)と、オフアクシスアライメント系に対してアッベ条件を満す1組(X、Y方向用)とを設け、ウェハステージ上の基準マークが投影レンズ直下に位置したとき、上記2組の干渉計による測定値が等しくなるようにプリセットする。
Claim (excerpt)：
マスクのパターンを感光基板へ結像投影する投影光学系と、前記感光基板を保持して前記投影光学系の光軸と垂直な面内で2次元移動するステージと、前記投影光学系の光軸位置から一定間隔だけ離れた位置に検出中心点を有し、前記感光基板上のマークを検出するマーク検出手段と、前記ステージの座標位置を測定するために前記マーク検出手段の検出中心点で直交する2本の測長軸を有する1組の第1干渉計と、前記投影光学系の光軸位置で直交する2本の測長軸を有する1組の第2干渉計とを備えた投影露光装置において、前記マスクを前記第1干渉計、もしくは第2干渉計によって規定される直交座標系に関して位置合わせするための基準マークが形成され、前記ステージ上の所定位置に固定された基準板と;前記基準板が前記投影光学系の視野領域に位置するように前記ステージを位置決めしたとき、前記第1干渉計による測定値と前記第2干渉計による測定値とが互いに等しくなるように設定する設定手段とを備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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