Pat
J-GLOBAL ID：200903018172577670
縮小投影露光装置用レチクル
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992147178
Publication number (International publication number)：1993341499
Application date： Jun. 08, 1992
Publication date： Dec. 24, 1993
Summary：
【要約】【目的】 アライメントマークをずれを生じさせたり、つぶしたりすることなくウェハーに露光し、合わせ精度を高める。【構成】 縮小投影露光装置用レチクルの、本体チップ領域1周辺のスクライブライン領域3に配置するアライメントマーク4に、保護パターン10,11を配置することによって本体チップ領域1周辺のスクライブライン領域3にアライメントマーク4を配置可能にしたことと、保護パターン10,11を設けたことによって露光時にアライメントマークのつぶれがなくなり、縮小投影露光装置用レチクルの設計のスループットの向上、合わせ精度の向上になり良品収量の向上を実現できた。
Claim (excerpt)：
レチクル内に少なくとも1つの本体チップ領域と、PCM領域と、前記本体チップ領域間にスクライブライン領域とを備え、前記スクライブライン領域にアライメントマークと、前記アライメントマークに対してY軸に対称の位置に配置した第1の保護パターンと、前記PCM領域によるシフトショット分移動した位置に配置した第2の保護パターンとよりなることを特徴とする縮小投影露光装置用レチクル。
IPC (3)：
G03F 1/08
, G03F 9/00
, H01L 21/027
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
