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J-GLOBAL ID：200903018176509670

位相シフトマスク部を有するマスク構造

Inventor： 塘 洋一
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 高月 亨
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992285042
Publication number (International publication number)：1994118620
Application date： Sep. 30, 1992
Publication date： Apr. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】 位相シフトマスク部を有するマスク構造について、容易で簡明な構成により、位相シフトマスク部とそれ以外の部分とのパターン形成寸法の差を解消できるマスク構造を提供する。【構成】 光透過部12と、この光透過部とは透過光の位相を変えて光を透過する位相シフト部11とを備えた位相シフトマスク部Aを有するマスク構造において、位相シフトマスク部の光透過率を、イオン注入や、光吸収材料膜21を設けることなどにより、位相シフトマスク部以外の部分Bよりも低く構成したマスク構造。

Claim (excerpt)：

光透過部と、この光透過部とは透過光の位相を変えて光を透過する位相シフト部とを備えた位相シフトマスク部を有するマスク構造において、位相シフトマスク部の光透過率を位相シフトマスク部以外の部分よりも低く構成したことを特徴とするマスク構造。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 311 W