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J-GLOBAL ID:200903018194853884
光触媒型保護被膜及び光触媒反応の発生方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
志賀 正武 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998119673
Publication number (International publication number):1999310886
Application date: Apr. 28, 1998
Publication date: Nov. 09, 1999
Summary:
【要約】【課題】 蛍光の利用により光触媒反応を長時間持続させるとともに、太陽光が得られない夜間等においても光触媒反応を発生させ、光触媒反応の発生効率向上や、光触媒反応の発生面積及び範囲の拡大を達成する。【解決手段】 保護被膜の中に、光触媒及び蛍光物質が分散状態に配されるとともに、透明粒体が介在状態に配される。
Claim (excerpt):
構造材(1)における被処理表面(1a)に形成される保護被膜(2)であって、保護被膜の中に、光触媒(21)及び蛍光物質(22)が分散状態に配されていることを特徴とする光触媒型保護被膜。
IPC (4):
C23C 30/00
, B01J 35/02
, C09D 5/00
, C09D 5/22
FI (4):
C23C 30/00 C
, B01J 35/02 J
, C09D 5/00 Z
, C09D 5/22
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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水生生物の付着防止材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-126351
Applicant:鈴木総業株式会社
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光触媒体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-049670
Applicant:株式会社タオ
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青色顔料の製造方法及び顔料付青色発光蛍光体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-142007
Applicant:化成オプトニクス株式会社
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密度の異なる燐光体を使用する改善された放射線医学システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-333930
Applicant:イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
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特開昭52-142685
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特開昭52-142685
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