荷電粒子ビームシステムにおけるビーム自動化

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小橋一男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000060892
Publication number (International publication number)：2000277043
Application date： Mar. 06, 2000
Publication date： Oct. 06, 2000
Summary：

【要約】【課題】荷電粒子ビームシステムにおけるフォーカシング、コントラスト設定、非点収差補正を高精度で、高信頼性で且つ高再現性を持って自動的に処理する技術を提供する。【解決手段】本発明によれば、自動焦点、自動コントラスト、x及びyの両方の方向における非点収差の自動補正は、フォーカス誘起型イメージ回転、サンプル特徴部オリエンテーション及びイメージ変形、フォーカス誘起型イメージ倍率変化と独立的なものであり、且つ種々の種類のノイズに影響を受けることはない。不良なイメージコントラストは自動コントラスト能力によって取扱われる。本発明によれば、従来技術と比較して処理が高速であり高い信頼性及び再現性を達成することが可能である。

Claim (excerpt)：

サンプルのフォーカスしたイメージを採取するためにフォーカスト粒子ビームカラムのパラメータを設定する自動化方法において、(a)前記カラムを整合させ、(b)前記イメージにおけるフォーカス回転中心を持った前記サンプルのイメージを採取し、(c)イメージのコントラストを設定し、(d)カラムのフォーカスを設定する、ことを特徴とする方法。

IPC (2)：

H01J 37/153 , H01J 37/21

FI (2)：

H01J 37/153 B , H01J 37/21 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

荷電粒子ビーム装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-107050 Applicant：株式会社日立製作所
特開平4-192244
非点収差補正方法及び非点収差補正装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-048962 Applicant：株式会社東芝

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