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J-GLOBAL ID：200903018207771149

プラズマ発生装置

Inventor： 石井 信雄
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994023992
Publication number (International publication number)：1995235395
Application date： Feb. 22, 1994
Publication date： Sep. 05, 1995
Summary：

【要約】【目的】 複数の高周波アンテナを用い、各高周波アンテナに独立して高周波電力を供給しても、各高周波電力の相互干渉を減少させ、負荷整合を良好に行うことができるプラズマ発生装置を提供すること。【構成】 チャンバ10内にプラズマを発生させ、チャンバ内に載置された被処理体にプラズマを用いて所定の処理を施すプラズマ発生装置において、上記チャンバ10内の上記被処理体に対向して内側に配置された少なくとも1巻きのコイル16とその外側に配置された少なくとも1巻きのコイル17とを同心円状に配置し、上記各1巻きのコイルの間に軸方向にスリットが形成された電磁シ-ルド用円筒部材50を立設するようにしたことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

チャンバ内にプラズマを発生させ、チャンバ内に載置された被処理体にプラズマを用いて所定の処理を施すプラズマ発生装置において、上記チャンバ内の上記被処理体に対向して内側に配置された少なくとも1巻きのコイルとその外側に配置された少なくとも1巻きのコイルとを同心円状に配置し、上記各1巻きのコイルの間に軸方向にスリットが形成された電磁シ-ルド用円筒部材を立設するようにしたことを特徴とするプラズマ発生装置。

IPC (7)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  H01Q 7/00

FI (3)：

H01L 21/302 B ,  H01L 21/302 C ,  H01L 21/31 C