ダイヤモンド状炭素膜の作製方法

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000056705
Publication number (International publication number)：2000226666
Application date： Oct. 11, 1988
Publication date： Aug. 15, 2000
Summary：

【要約】【課題】炭素を主成分とする膜を基体または部材に密着させて形成する。【解決手段】反応性気体のプラズマを発生して前記部材の表面に下地被膜を形成し、炭化水素気体のプラズマを発生して、前記下地膜上にダイヤモンド状炭素膜を形成。

Claim (excerpt)：

部材を覆うダイヤモンド状炭素膜を作製する方法であって、反応性気体のプラズマを発生して前記部材の表面に下地被膜を形成し、炭化水素気体のプラズマを発生して、前記下地膜上にダイヤモンド状炭素膜を形成することを特徴とするダイヤモンド状炭素膜の作製方法。

IPC (3)：

C23C 16/27 , C23C 16/505 , B32B 9/00

FI (3)：

C23C 16/27 , C23C 16/505 , B32B 9/00 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (20)

特開昭61-030671
特開昭62-133068
特開昭63-210010

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