マイクロ流路デバイス及びマイクロ流路デバイスの製造方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：野口恭弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007080768
Publication number (International publication number)：2008238313
Application date： Mar. 27, 2007
Publication date： Oct. 09, 2008
Summary：

【課題】対流の発生を抑制し、意図しない流体同士の混合や、流体内の粒子の偏在が生じにくいマイクロ流路デバイスを提供すること。さらに、前記マイクロ流路デバイスの好適な製造方法を提供すること。【解決手段】複数の流体が層流を形成して送流されるマイクロ流路を有し、該マイクロ流路の内壁に、流体の流れと略平行であり、かつ、前記複数の流体が形成する界面に対して略垂直方向に突出する凸部を有することを特徴とするマイクロ流路デバイス。前記マイクロ流路は湾曲部を有し、前記凸部は、マイクロ流路の湾曲部に設けられていることが好ましい。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

複数の流体が層流を形成して送流されるマイクロ流路を有し、該マイクロ流路の内壁に、流体の流れと略平行であり、かつ、前記複数の流体が形成する界面に対して略垂直方向に突出する凸部を有することを特徴とするマイクロ流路デバイス。

IPC (4)：

B81B 1/00 , B01J 19/00 , B81C 3/00 , G01N 37/00

FI (4)：

B81B1/00 , B01J19/00 321 , B81C3/00 , G01N37/00 101

F-Term (20)：

3C081AA01 , 3C081BA08 , 3C081BA11 , 3C081BA23 , 3C081CA05 , 3C081CA30 , 3C081CA32 , 3C081DA11 , 3C081EA26 , 3C081EA37 , 4G075AA02 , 4G075AA39 , 4G075BA10 , 4G075DA02 , 4G075EB50 , 4G075EC09 , 4G075EC11 , 4G075EE03 , 4G075EE12 , 4G075FB02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

マイクロ流体装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-195886 Applicant：セイコーインスツル株式会社
マイクロ流路
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-097896 Applicant：株式会社日立製作所
マイクロ流体素子
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-382120 Applicant：富士ゼロックス株式会社

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Cited by examiner (3)

マイクロ流路
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-097896 Applicant：株式会社日立製作所
マイクロ流体素子
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-382120 Applicant：富士ゼロックス株式会社
反応装置及び反応方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-001120 Applicant：株式会社神戸製鋼所

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