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J-GLOBAL ID：200903018269208122
ガス吸・脱着処理装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小谷 悦司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998109944
Publication number (International publication number)：1998305208
Application date： Mar. 15, 1989
Publication date： Nov. 17, 1998
Summary：
【要約】【課題】 吸着体の吸着領域における吸着性能を向上すると共に、脱着排ガス中の所定成分濃度を高め、効率的なガス吸・脱着処理を行なうことのできる装置を提供することを目的とする。【解決手段】 吸着領域,再生領域を巡回する円筒状又は円柱状の吸着体を備えた回転式ガス吸・脱着処理装置であり、再生領域12と吸着領域11の間に冷却領域20が設けられている。冷却領域20のガス排出側が再生領域12のガス導入側に接続されている。吸着体がハニカム状である。
Claim (excerpt)：
吸着領域,再生領域を巡回する円筒状又は円柱状の吸着体を備えた回転式ガス吸・脱着処理装置において、前記再生領域と前記吸着領域の間に冷却領域が設けられ、該冷却領域のガス排出側が前記再生領域のガス導入側に接続され、且つ前記吸着体がハニカム状であることを特徴とするガス吸・脱着処理装置。
Patent cited by the Patent：
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