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J-GLOBAL ID：200903018375298610

プラズマ処理装置

Inventor： 土居 昭 ,  吉岡 健 ,  宮田 健治 ,  手束 勉 ,  池田 裕一
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995144781
Publication number (International publication number)：1996337887
Application date： Jun. 12, 1995
Publication date： Dec. 24, 1996
Summary：

【要約】【目的】本発明の第1の目的は、大口径の高密度プラズマを生成できる小型のマイクロ波プラズマ処理装置を提供することにある。本発明の第2の目的は、大口径プラズマの密度分布を均一化できる小型のマイクロ波プラズマ処理装置を提供することにある。【構成】本実施例のマイクロストリップアンテナ1は右回り円偏波を放射する小型のアンテナモジュールを3列×3行に配列して構成されている。アンテナモジュール18a,18b,18cに給電するマイクロ波のパワーをPa,Pb,Pcとすると、プラズマ密度を均一にするためにはPa<Pc<Pbとすれば良い。

Claim (excerpt)：

アンテナから放射したマイクロ波で生成したプラズマを用いて基板の表面処理を行うプラズマ処理装置において、前記アンテナは、右回り円偏波のマイクロ波を放射する複数のマイクロストリップアンテナを備えることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5)：

C23F 4/00 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 ,  H01L 21/3065

FI (6)：

C23F 4/00 D ,  C23F 4/00 G ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 C ,  H01L 21/302 B