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J-GLOBAL ID：200903018386051617

高周波プラズマによる球状化粒子の製造方法およびその装置

Inventor： 野村 威 ,  町田 収 ,  住友 紘泰
Applicant, Patent owner： 月島機械株式会社 ,  富士電波工機株式会社
Agent (1)： 永井 義久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992178352
Publication number (International publication number)：1994025717
Application date： Jul. 06, 1992
Publication date： Feb. 01, 1994
Summary：

【要約】【目的】高周波プラズマ反応装置を用いた球状化粒子の生産に当たり、処理物質供給ノズル、プラズマトーチ部の閉塞およびプラズマの失火現象を無くし安定的に、小径サイズの球状粒子を高い球状化率をもって生産する。【構成】発生したプラズマフレームFにおける高周波誘導コイル2,2...配設領域外のテールフレーム領域Bに対して、処理物質を前記プラズマフレーム軸からプラズマガス流れ方向前方の±45°範囲を除く範囲から実質的に前記プラズマフレーム軸に向けて活性ガスまたは不活性ガスとともに供給する。

Claim (excerpt)：

高周波誘導コイルにより高周波磁場を励磁し、この高周波磁場内にプラズマガスを供給して誘導的に高周波プラズマフレームを発生させ、この高周波プラズマフレーム内に処理物質を供給して球状化粒子を製造する方法において、発生するプラズマフレームにおける前記高周波誘導コイル配設領域外のテールフレーム領域に対して、前記処理物質を前記プラズマフレーム軸からプラズマガス流れ方向前方の±45°範囲を除く範囲から実質的に前記プラズマフレーム軸に向けて活性ガスまたは不活性ガスとともに供給することを特徴とする高周波プラズマによる球状化粒子の製造方法。

IPC (2)：

B22F 9/14 ,  H05H 1/46

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭63-198299
  
• 特開昭61-161138