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J-GLOBAL ID:200903018400327396

光結合回路及び光結合回路の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 光石 俊郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991220095
Publication number (International publication number):1993060936
Application date: Aug. 30, 1991
Publication date: Mar. 12, 1993
Summary:
【要約】【目的】 簡易な方法により出射ビームサイズを拡大して光軸整合時の寸法精度を緩和する。【構成】 単一モード光ファイバからの出射ビームがファイバ固有の光ビームサイズよりも大きく拡大されてファイバ同士との結合を行う光結合回路及び光結合回路の製造方法において、単一モード光ファイバ11の外周に均一で所定の厚さの金属薄膜層13を所定の長さに渡って形成し、そのファイバ11の先端近傍において所定の長さに渡って所定の時間金属薄膜層13へヒータ供給電源15により通電し、真空または不活性ガス中にて部分的に高温加熱処理し、高温加熱処理が施されたた光ファイバ11の端面同士を結合させて光結合回路を構成する。
Claim (excerpt):
単一モード光ファイバからの出射ビームが該ファイバ固有の光ビームサイズよりも大きく拡大されたファイバ同士との結合を行う光結合回路において、前記単一モード光ファイバの外周に均一で所定の厚さの金属薄膜層が所定の長さに渡って形成され、該金属薄膜層に所定時間通電して部分的に高温加熱処理が施されることで前記ファイバの光ビームサイズが拡大され、該光ファイバの端面同士が結合されたことを特徴とする光結合回路。
IPC (2):
G02B 6/26 ,  G02B 6/10

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