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J-GLOBAL ID:200903018413462900

新規なポリマーを含有する放射線感光性組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 佐伯 憲生
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998190922
Publication number (International publication number):1999349760
Application date: Jun. 01, 1998
Publication date: Dec. 21, 1999
Summary:
【要約】 (修正有)【解決手段】 ポリマーの新規な混合物を含有するフォトレジスト組成物。この混合物は、ボリマーの少なくとも一方が、酸環境に対して不活性である基によって置換されている、ノボラック樹脂及びポリビニルフェノール樹脂からなる。【効果】フォトレジスト配合物中に使用されるとき、このフォトレジストは、アイーライン照射に露光されたとき改良された現像能力を示す。
Claim (excerpt):
ポリビニルフェノール樹脂及びノボラック樹脂からなるポリマーの混合物であって、当該ポリマーの少なくともひとつが、酸性下で不活性基で置換されたペンダントヒドロキシ基を有し、当該混合物のポリビニルフェノール樹脂のノボラック樹脂に対する重量比が1対10から10対1であるポリマー組成物。
IPC (4):
C08L 25/18 ,  C08L 61/06 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039
FI (4):
C08L 25/18 ,  C08L 61/06 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039

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