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J-GLOBAL ID:200903018420358743

荷電粒子ビーム露光方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 井桁 貞一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992336454
Publication number (International publication number):1994188180
Application date: Dec. 17, 1992
Publication date: Jul. 08, 1994
Summary:
【要約】【目的】 荷電粒子ビーム露光方法に関し,装置の熱的影響を除去して各マークの走査時刻に依存しない真の補正係数を算出することを目的とする。【構成】 1)被露光面上に形成された複数のマークの内n個のマークを荷電粒子ビームで順次走査して, ビーム位置と各マークの中心位置のずれ量di(1≦i≦n)を取得し,最初に走査したマークを再度,最後に走査して前記ずれ量d1'を取得し,最初のマークの2度の走査における測定ずれ量の差(d1'-d1)をΔと置き, 全走査時間をTとすると,各マーク走査時刻におけるドリフト量Δi を(1) 式Δi =Δ×(i-1)/nで求め, 各マークの真のずれ量Di を(2) 式Di =di i により算出し, Di を用いてビームの偏向位置を補正する,2)前記(1) 式の代わりに,(3)式Δi =Δ×(ti -t1 )/T(tは時刻)を用いるように構成する。
Claim (excerpt):
被露光面上に形成された複数のマークの内n個のマークを荷電粒子ビームで順次走査して, ビーム位置と各マークの中心位置のずれ量di(1≦i≦n)を取得し,最初に走査したマークを再度,最後に走査して前記ずれ量d1'を取得し,最初のマークの2度の走査における測定ずれ量の差(d1'-d1)をΔと置き, 全走査時間をTとすると,各マーク走査時刻におけるドリフト量Δi を(1) 式で求め, Δi =Δ×(i-1)/n (1) 各マークの真のずれ量Di を(2) 式により算出し, Di =di i (2) このDi 値を用いてビームの偏向位置を補正することを特徴とする荷電粒子ビーム露光方法。

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