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J-GLOBAL ID：200903018425881908

オキシカルボニルメチル基を有する新規なスルホニウム塩化合物

Inventor： 伊藤 牧八 ,  仲森 成人
Applicant, Patent owner： 株式会社三和ケミカル
Agent (1)： 羽鳥 修
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998029846
Publication number (International publication number)：1999228534
Application date： Feb. 12, 1998
Publication date： Aug. 24, 1999
Summary：

【要約】【課題】 最大吸収波長が200nm以下でモル吸光係数が低く(102 オーダー)、且つ溶剤に対する溶解性が良く、特に波長193nmのArFエキシマレーザーを露光光とするレジスト材料の感光剤(光酸発生剤)として好適な新規スルホニウム塩化合物を提供すること。【解決手段】 下記〔化1〕の一般式(I)で示される、オキシカルボニルメチル基を一つ以上含むスルホニウム塩化合物。【化1】(式中、Y- は対イオンであり、R1 及びR2 は窒素原子を含まない置換基で同一でも異なっていても良く、また硫黄原子を含む環状構造でも良い。また、R3は水素原子、炭素数1から10の直鎖状、分岐状あるいは橋かけ環式炭化水素基、アルコキシメチル基、テトラヒドロピラン-2-イル基、置換芳香族炭化水素基である。)

Claim (excerpt)：

下記〔化1〕の一般式(I)で示される、オキシカルボニルメチル基を一つ以上含むスルホニウム塩化合物。【化1】(式中、Y- は対イオンであり、R1 及びR2 は窒素原子を含まない置換基で同一でも異なっていても良く、また硫黄原子を含む環状構造でも良い。また、R3は水素原子、炭素数1から10の直鎖状、分岐状あるいは橋かけ環式炭化水素基、アルコキシメチル基、テトラヒドロピラン-2-イル基、置換芳香族炭化水素基である。)

IPC (3)：

C07C381/12 ,  C09K 9/02 ,  G03F 7/004 503

FI (3)：

C07C381/12 ,  C09K 9/02 B ,  G03F 7/004 503 A