露光装置、デバイス製造方法およびステージ装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：伊東哲也 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996219040
Publication number (International publication number)：1998050586
Application date： Aug. 02, 1996
Publication date： Feb. 20, 1998
Summary：

【要約】【課題】原板や基板を走査方向へ移動する際の加速時の反力による露光性能への影響をスループットを低下させることなく排除する。【解決手段】固定部4a、可動部4b、および固定部と可動部との間で推力を付与することにより前記可動部を所定の移動方向へ移動させる駆動手段4を備えたステージ装置において、固定部を前記移動方向については自由度をもたせて支持する第1の支持手段101と、固定部を前記移動方向について剛に、他の方向に対しては柔に支持する一軸支持手段102を有するとともに第1支持手段とは振動が伝わらないように分離した第2の支持手段105とを備える。このステージ装置を、走査型露光装置の原板の走査に使用し、第1支持手段は投影光学系2が取り付けられた鏡筒定盤9と結合させる。

Claim (excerpt)：

固定部、可動部、および前記固定部と可動部との間で推力を付与することにより前記可動部を所定の移動方向へ移動させる駆動手段を備えたステージ装置であって、前記固定部を前記移動方向については自由度をもたせて支持する第1の支持手段と、前記固定部を前記移動方向について剛に、他の方向に対しては柔に支持する一軸支持手段を有するとともに前記第1支持手段とは振動が伝わらないように分離した第2の支持手段とを備えたことを特徴とするステージ装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 , H01L 21/68

FI (3)：

H01L 21/30 515 F , H01L 21/68 K , H01L 21/30 515 G

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

位置決めステージ装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-358993 Applicant：キヤノン株式会社
力が補償されるマシンフレームを有する光リソグラフ装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-081687 Applicant：エヌ・ベー・フイリツプス・フルーイランペンフアブリケン
ステージ装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-270654 Applicant：株式会社ニコン

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