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J-GLOBAL ID:200903018450505147
物質処理方法および装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
杉村 暁秀 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999218866
Publication number (International publication number):2001038138
Application date: Aug. 02, 1999
Publication date: Feb. 13, 2001
Summary:
【要約】【課題】 排ガス中に含まれるNOx,SOxやダイオキシンなどの有害物質を放電プラズマによって効率よく無害な物質に分解できる方法および装置を提供する。【解決手段】 電気絶縁製のハニカム構造体11の両端面に設けたメッシュ電極13および14間にパルス電源16を接続して貫通孔12に沿ってパルス放電プラズマを発生させ、処理すべき有害物質を含む排ガスを貫通孔に通す際に、パルス放電プラズマ中に生成される高エネルギー電子やラジカルと反応させて有害物質を分解する。放電空間がハニカム構造体の貫通孔によって規定されるので、ハニカム構造体全体に亘って均一に放電プラズマを発生でき、有害物質の分解効率を向上できる。
Claim (excerpt):
処理すべき物質を含む流体が通過する複数の貫通孔を有する電気絶縁性のハニカム構造体の内部で放電プラズマを発生させ、貫通孔を通過する流体中の特定物質を、この放電プラズマと反応させて処理することを特徴とする物質処理方法。
IPC (3):
B01D 53/32
, B01D 53/70
, B01J 19/08 ZAB
FI (3):
B01D 53/32
, B01J 19/08 ZAB E
, B01D 53/34 134 E
F-Term (16):
4D002AA21
, 4D002AC04
, 4D002BA07
, 4D002CA20
, 4D002GB20
, 4G075AA03
, 4G075AA37
, 4G075BA05
, 4G075CA18
, 4G075CA47
, 4G075EB41
, 4G075EC21
, 4G075EE33
, 4G075FA03
, 4G075FB04
, 4G075FC15
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