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J-GLOBAL ID：200903018477668331

光ディスク用ガラス原盤の作製方法

Inventor： 升澤 正弘
Applicant, Patent owner： 株式会社リコー
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998213534
Publication number (International publication number)：2000030308
Application date： Jul. 13, 1998
Publication date： Jan. 28, 2000
Summary：

【要約】【課題】 グルーブ底部に酸化膜の段部がなく、しかも酸化膜の破片が残留していないガラス原盤を得る。【解決手段】 ガラス基板11上に第1ポジ型フォトレジスト層12、酸化膜からなる中間層13、第2ポジ型フォトレジスト層14の順に積層した原盤を作製するに際し、第1の記録光で第1、第2ポジ型フォトレジスト層12,14にピットPの潜像を形成するとともに、第2の記録光で第2ポジ型フォトレジスト層14にのみグルーブGの潜像を形成する。ついで、第2ポジ型フォトレジスト層の現像、酸化膜13のエッチング、第1ポジ型フォトレジスト層の現象、酸化膜13のエッチング順に処理を行う。この方法によれば、酸化膜の段部15,16が上記最終工程においてエッチングで除去される。また、酸化膜の破片が発生することがあっても、これが上記エッチングで消失する。

Claim (excerpt)：

ガラス基板上に第1のポジ型フォトレジスト層、酸化膜からなる中間層、第2のポジ型フォトレジスト層の順に積層した原盤を作製する方法において、第1と第2のポジ型フォトレジスト層を感光させる光量の第1の記録光によりこれらのポジ型フォトレジスト層に潜像を形成するとともに、第2のポジ型フォトレジスト層のみを感光させる、第1の記録光の光量よりも弱い光量の第2の記録光で第2のポジ型フォトレジスト層に潜像を形成した後、第2のポジ型フォトレジスト層の現像、酸化膜からなる中間層のエッチング、第1のポジ型フォトレジストの現象、酸化膜からなる中間層のエッチングの順に処理を行うことを特徴とする光ディスク用ガラス原盤の作製方法。

F-Term (6)：

5D121BB05 ,  5D121BB07 ,  5D121BB23 ,  5D121BB28 ,  5D121BB33 ,  5D121BB38