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J-GLOBAL ID:200903018499020670

光断層画像化装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 柳田 征史 ,  佐久間 剛
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005289124
Publication number (International publication number):2007101268
Application date: Sep. 30, 2005
Publication date: Apr. 19, 2007
Summary:
【課題】光コヒーレンストモグラフィー計測において、測定開始位置の調整を短時間かつ簡便に行う。【解決手段】たとえば体腔内の断層画像をプローブ30を用いた光コヒーレンストモグラフィー計測により取得するときに、距離測定手段34を用いてプローブ30から測定対象までの距離を測定する。そして、距離測定手段34により測定された測定対象までの距離に基づいて、光路長調整手段20が測定光L1もしくは参照光L2の光路長を調整する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
測定対象の断層画像を取得する光断層画像化装置において、 光を射出する光源ユニットと、
IPC (3):
G01N 21/17 ,  A61B 10/00 ,  A61B 1/00
FI (4):
G01N21/17 630 ,  G01N21/17 625 ,  A61B10/00 E ,  A61B1/00 300D
F-Term (24):
2G059AA03 ,  2G059AA05 ,  2G059AA06 ,  2G059BB12 ,  2G059CC16 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059EE12 ,  2G059FF02 ,  2G059GG01 ,  2G059GG03 ,  2G059GG09 ,  2G059GG10 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ22 ,  2G059LL01 ,  2G059MM01 ,  2G059MM09 ,  2G059PP04 ,  4C061AA24 ,  4C061BB08 ,  4C061GG11 ,  4C061HH52
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
  • 光イメージング装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2001-374702   Applicant:オリンパス光学工業株式会社
  • 米国特許第6552796号明細書

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