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J-GLOBAL ID：200903018527682969

基板処理装置

Inventor：
加藤 修二

About 加藤 修二


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (2)： 井上 俊夫 ,  水野 洋美
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002307226
Publication number (International publication number)：2004146449
Application date： Oct. 22, 2002
Publication date： May. 20, 2004
Summary：
【課題】基板例えばウエハに対して複数の処理ユニットにて順次処理されることにより所定の処理が行われる基板処理装置において、搬送効率を高め、高スループットを確保すること。【解決手段】上下方向に伸びる搬送領域Zの周囲に複数のタワーT1〜T8を設け、これら複数のタワーT1〜T8の各々を3段の処理ゾーンに分割し、これら処理ゾーンの各々に設けられる、互いに積層された複数の処理ユニットに対して専用の基板搬送手段によりウエハの受け渡しを行うと共に、前記処理ゾーンを、ウエハに対して行われる処理の順番に下段側から上段側に向かって、または上段側から下段側に向かって配列することにより、ウエハの搬送を効率よく行うことができ、高いスループットを確保できる。【選択図】 図2
Claim (excerpt)：
基板に対して複数の処理ユニットにて順次処理されることにより所定の処理が行われる基板処理装置において、 基板を搬送するために上下方向に伸び、複数段の搬送ゾーンに分割された搬送領域と、 この搬送領域の周囲に設けられた複数のタワーと、 これら複数のタワーの各々において、前記複数段の搬送ゾーンに対応して夫々割り当てられた複数段の処理ゾーンと、 これら複数段の処理ゾーンの各々に設けられ、互いに積層された複数の処理ユニットと、 前記複数段の搬送ゾーンの夫々に設けられ、その搬送ゾーンに対応する処理ゾーンに設けられた各処理ユニットに対して基板の受け渡しを行うと共に、互いに独立して駆動される複数の基板搬送手段と、 少なくとも一つのタワーに設けられ、前記所定の処理が行われる前の基板が搬入される基板搬入部と、 少なくとも一つのタワーに設けられ、前記所定の処理が終了した基板が搬出される基板搬出部と、を備え、 前記複数段の処理ゾーンは、基板に対して行われる処理の順番に下段側から上段側に向かって、または上段側から下段側に向かって配列されていることを特徴とする基板処理装置。
IPC (6)：
H01L21/02 ,  B65G1/04 ,  B65G49/00 ,  B65G49/07 ,  H01L21/31 ,  H01L21/68
FI (6)：
H01L21/02 Z ,  B65G1/04 563 ,  B65G49/00 A ,  B65G49/07 D ,  H01L21/31 A ,  H01L21/68 A
F-Term (40)：
3F022AA08 ,  3F022CC02 ,  3F022EE05 ,  3F022FF01 ,  3F022KK01 ,  3F022MM11 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA04 ,  5F031GA32 ,  5F031GA35 ,  5F031GA47 ,  5F031GA49 ,  5F031GA50 ,  5F031HA48 ,  5F031HA58 ,  5F031HA59 ,  5F031LA14 ,  5F031MA02 ,  5F031MA04 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA30 ,  5F031NA04 ,  5F031NA05 ,  5F031NA09 ,  5F031NA16 ,  5F045AB39 ,  5F045AF01 ,  5F045DP02 ,  5F045DQ10 ,  5F045EB19 ,  5F045EN04
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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