光導波路および光導波路の作製方法。

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002230940
Publication number (International publication number)：2003131058
Application date： Aug. 08, 2002
Publication date： May. 08, 2003
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】高分子材料に光導波路を簡便に作製する製造方法および簡便に製作された3次元化も容易な光導波路を提供すること。【解決手段】一つの高分子材料の内部にレーザ光を集光照射することにより、屈折率の異なるコアとクラッド層を形成して光導波路を製造する。特にレーザー光の集光照射を、高分子材料の内部で集光点を相対移動させる、あるいはレーザ光の集光点に対し高分子材料を連続的に移動させるによって行い、かつ高分子材料にピーク出力値が高いパルスレーザーを照射することによって上記課題を解決する。

Claim (excerpt)：

【請求項1 】レーザ光の集光照射により屈折率が変化した部分が高分子材料の内部に連続して形成されている光導波路。

IPC (5)：

G02B 6/13 , C08J 7/00 302 , C08J 7/00 CEZ , G02B 6/12 , C08L101:00

FI (5)：

C08J 7/00 302 , C08J 7/00 CEZ , C08L101:00 , G02B 6/12 M , G02B 6/12 N

F-Term (21)：

2H047KA04 , 2H047KA12 , 2H047PA22 , 2H047PA28 , 2H047QA05 , 4F073AA32 , 4F073BA06 , 4F073BA12 , 4F073BA13 , 4F073BA18 , 4F073BA22 , 4F073BA23 , 4F073BA25 , 4F073BA26 , 4F073BA28 , 4F073BA29 , 4F073BA31 , 4F073BA32 , 4F073BA33 , 4F073BB01 , 4F073CA46

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (14)

動的3次元光接続方法及び光接続素子
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-028277 Applicant：新技術事業団
光導波路作製法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-148639 Applicant：工業技術院長
ポリイミドフィルムの加工方法及びポリイミド光導波路
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-271216 Applicant：日本電信電話株式会社

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