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J-GLOBAL ID：200903018574499528

光情報媒体用フォトレジスト原盤の製造方法および光情報媒体用スタンパの製造方法

Inventor：
小宅 久司

About 小宅 久司

, 
高畑 広彰

About 高畑 広彰


Applicant, Patent owner：
TDK株式会社

About TDK株式会社


Agent (1)： 石井 陽一
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002568371
Publication number (International publication number)：2004519803
Application date： Feb. 26, 2002
Publication date： Jul. 02, 2004
Summary：
光情報媒体の製造に用いるフォトレジスト原盤において、露光波長の半分程度の最小幅をもつ微細なパターンを形成するに際し、パターン高さの減少を抑え、また、パターン断面プロファイルの鈍りを改善する。基板上にフォトレジスト層を形成し、このフォトレジスト層上からレーザビームを照射してフォトレジスト層に潜像を形成し、この潜像を現像して凹凸パターンを形成することによりフォトレジスト原盤を製造するに際し、基板とフォトレジスト層との間に、フォトレジスト層に接して、前記レーザビームの波長において光吸収性を示す光吸収層を設ける光情報媒体用フォトレジスト原盤の製造方法。
Claim (excerpt)：
基板上にフォトレジスト層を形成し、このフォトレジスト層上からレーザビームを照射してフォトレジスト層に潜像を形成し、この潜像を現像して凹凸パターンを形成することによりフォトレジスト原盤を製造するに際し、 基板とフォトレジスト層との間に、フォトレジスト層に接して、前記レーザビームの波長において光吸収性を示す光吸収層を設ける光情報媒体用フォトレジスト原盤の製造方法。
IPC (1)：
G11B7/26
FI (2)：
G11B7/26 501 ,  G11B7/26 511
F-Term (4)：
5D121BB04 ,  5D121BB21 ,  5D121CB06 ,  5D121CB07
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • 特開平4-263140
  • 特開昭62-262244
  • 記録媒体及びその製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-240604   Applicant：株式会社ソニー・ディスクテクノロジー
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