Pat
J-GLOBAL ID:200903018592991952

応答性の改善されたポリシランフォトリフラクティブ素子

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石田 敬 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998079025
Publication number (International publication number):1999271822
Application date: Mar. 26, 1998
Publication date: Oct. 08, 1999
Summary:
【要約】【課題】 ポリシラン系のフォトリフラクティブ材料を用いた応答速度の速いフォトリフラクティブ素子を提供する。【解決手段】 ポリシラン中のシラノール含有量を少量に抑えることにより応答速度を1秒以下にしたポリシランフォトリフラクティブ素子。
Claim (excerpt):
ポリシラン中に含まれるシラノール量を減少させ、その回折光強度が、ポリシランフォトリフラクティブ素子にレーザ光の照射を始めて後最終回折光強度の50%となるまでに要する時間が1秒以下である応答性の改善された前記ポリシランフォトリフラクティブ素子。
Article cited by the Patent:
Return to Previous Page