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J-GLOBAL ID：200903018606669927
回転プラズマ放電型X線発生装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
社本 一夫 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999341656
Publication number (International publication number)：2001155896
Application date： Dec. 01, 1999
Publication date： Jun. 08, 2001
Summary：
【要約】【課題】 ピンチ放電を用いたX線、軟X線等の発生装置または放電型X線レーザーを備えた半導体リソグラフィー、ラジオグラフィー、医療診断、X線顕微鏡、X線蛍光分析、材料表面改質技術及び透過画像計測等を行うX線応用の産業技術、医療診断技術分野で利用できる。または本発明は、輝度の高いX線、軟X線を必要とする分野で利用できる。【解決手段】 この回転プラズマをピンチ電極間に生成させることで電極間の予備電離プラズマの構造及び径方向、軸方向の密度分布の対称性及び均一性が改善されるため、ピンチ放電により従来方法よりも高いX線発生効率を有するより安定なピンチプラズマを生成することが可能となる。つまり、ピンチプラズマの不安定性の原因となる従来の予備放電による予備電離プラズマの密度分布の不均一性や非対称性を、回転プラズマを用いることで克服することができる。
Claim (excerpt)：
ピンチ放電を用いた放電型X線発生装置に予備放電装置として回転プラズマ用予備放電装置を付加し、予備電離プラズマとして回転プラズマを生成、利用することによってピンチ放電における放電ピンチプラズマの安定性及びX線発生効率を向上させることを特徴とする放電型X線発生装置。
F-Term (8)：
4C092AA07
, 4C092AA10
, 4C092AA14
, 4C092AB21
, 4C092BB40
, 4C092BD18
, 4C092BD20
, 4C092CE14
