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J-GLOBAL ID：200903018620356494

有機物含有水の処理方法

Inventor：
矢野 大作

About 矢野 大作

, 
村上 健

About 村上 健


Applicant, Patent owner：
オルガノ株式会社

About オルガノ株式会社


Agent (1)： 畑中 芳実 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998113185
Publication number (International publication number)：1999099395
Application date： Apr. 23, 1998
Publication date： Apr. 13, 1999
Summary：
【要約】【課題】 有機物を含む水に紫外線照射を行うことにより有機物を酸化分解して除去するに当たり、有機物の酸化分解効率を向上させ、また従来の紫外線酸化法では除去が困難であった有機物を酸化分解できるようにし、かつ被処理水の処理コストの低減を図る。【解決手段】 被処理水にペルオキシド基を含む硫黄化合物を添加して紫外線酸化処理を行う。例えば、添加手段4より被処理水に前記硫黄化合物を添加した後、紫外線照射装置2で紫外線酸化処理を行う。必要に応じ、?@被処理水を加熱する、?A被処理水中に含まれる被酸化性無機物を予め除去又は分解した後、被処理水に前記硫黄化合物を添加する、?B紫外線光源として主たる発光波長が300nm以下の領域に存在する光源を用いる、?C被処理水への前記硫黄化合物の添加量を、有機物を酸化分解するのに必要な理論量の0.6倍を超え1倍未満の量とする、?D紫外線酸化処理を行った後にその処理水の脱イオン処理を行う、?E紫外線酸化処理と上記脱イオン処理との間に被処理水中に残存する前記硫黄化合物の除去処理を行う、といった手段を採る。
Claim (excerpt)：
被処理水に紫外線を照射することにより被処理水中に含まれる有機物を酸化分解して除去する紫外線酸化処理を行うに当たり、被処理水にペルオキシド基を含む硫黄化合物を添加して前記紫外線酸化処理を行うことを特徴とする有機物含有水の処理方法。
IPC (4)：
C02F 1/72 101 ,  C02F 1/72 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/42
FI (4)：
C02F 1/72 101 ,  C02F 1/72 Z ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/42 B
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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