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J-GLOBAL ID：200903018646023655

非線形光学材料およびその製造方法

Inventor： 中村 滋年 ,  森山 弘朗
Applicant, Patent owner： 富士ゼロックス株式会社
Agent (1)： 渡部 剛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993046155
Publication number (International publication number)：1994235948
Application date： Feb. 12, 1993
Publication date： Aug. 23, 1994
Summary：

【要約】【目的】 素子化のための加工性、機械的強度、耐環境性、経時安定性に優れ、非線形光学効果を示す有機化合物を安定に保持する、クラックのない高い非線形光学効果を示す非線形光学材料、およびその製造方法を提供する。【構成】 シラン誘導体含有加水分解性材料を加水分解して形成された媒体中に非線形光学効果を有する有機化合物が含有されてなる非線形光学材料であって、該シラン誘導体含有加水分解性材料が下記式(1)で示されるシラン化合物を含むことを特徴とする。R1 SiX1 3 (1)(式中、R1 は、炭素数の総和が4以下の、置換基を有してもよい飽和または不飽和脂肪族炭化水素基を表し、X1 は、アルコキシ基、ハロゲン原子またはイソシアネート基を表す。)

Claim (excerpt)：

シラン誘導体含有加水分解性材料を加水分解して形成された媒体中に非線形光学効果を示す有機化合物が含有されてなる非線形光学材料において、該シラン誘導体含有加水分解性材料を下記式(1)で示されるシラン化合物を含むことを特徴とする非線形光学材料。R1 SiX1 3 (1)(式中、R1 は、炭素数の総和が4以下の、置換基を有してもよい飽和または不飽和脂肪族炭化水素基を表し、X1 は、アルコキシ基、ハロゲン原子またはイソシアネート基を表す。)

IPC (2)：

G02F 1/35 504 ,  C07F 7/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-246465
  
• 特開平1-185328
  
• 特開平4-007524