Pat

J-GLOBAL ID：200903018647228366

気相合成ダイヤモンド膜およびこの気相合成ダイヤモンド膜からなるX線露光用マスク

Inventor： 吉川 博道 ,  菊池 則文 ,  山下 博明 ,  松井 安次
Applicant, Patent owner： 三菱マテリアル株式会社 ,  三菱電機株式会社
Agent (1)： 富田 和夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993095643
Publication number (International publication number)：1994316492
Application date： Mar. 30, 1993
Publication date： Nov. 15, 1994
Summary：

【要約】【目的】 透光性に優れた気相合成ダイヤモンド膜およびこの気相合成ダイヤモンド膜で構成されたX線露光用マスクを提供する。【構成】 下記の構成を有する透光性に優れた気相合成ダイヤモンド膜およびこの気相合成ダイヤモンド膜からなるX線露光用マスク。気相合成ダイヤモンド膜の構成、(1) 結晶粒径:30〜100nm、(2) 表面粗さ:80nm以下、(3) (非ダイヤモンド成分のラマン強度)/(ダイヤモンドのラマン強度):10%以下、(4) ダイヤモンドのラマンピーク半値幅:4〜10cm-1。

Claim (excerpt)：

下記の構成を有する透光性に優れた気相合成ダイヤモンド膜。(1) 結晶粒径:30〜100nm、(2) 表面粗さ(ダイヤモンド膜の断面を観察した時の膜表面の凹凸の最も高い所と低い所の差):80nm以下、(3) 非ダイヤモンド成分のラマン強度がダイヤモンドのラマン強度の10%以下、(4) ダイヤモンドのラマンピークの半値幅が4〜10cm-1。

IPC (2)：

C30B 29/04 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• ダイヤモンド薄膜およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-337866   Applicant：日本電気株式会社