プロトンによる脱離性基を有する共重合体及びその製造方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：安富康男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000364466
Publication number (International publication number)：2002167407
Application date： Nov. 30, 2000
Publication date： Jun. 11, 2002
Summary：

【要約】【課題】プロトンの存在下でのアルカリ水溶液への溶解性等の特性が向上されて様々な用途に好適に適用することができる、プロトンによる脱離性基を有する共重合体及びその製造方法を提供する。【解決手段】下記一般式(1);【化1】〔式中、R1 、R2 及びR3 は、同一又は異なって、プロトンによる脱離性基を表す。a、b及びcは、それぞれ共重合体中の繰り返し単位(A)、(B)及び(C)の存在量(モル%)を表す。〕で表され、繰り返し単位(A)と繰り返し単位(B)及び/又は繰り返し単位(C)とを必須とし、重量平均分子量が2000〜30000である、プロトンによる脱離性基を有する共重合体であって、該プロトンによる脱離性基を有する共重合体における該a、b及びcは、aが5〜30モル%、かつ、b+cが70〜95モル%の要件を満たすプロトンによる脱離性基を有する共重合体。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1);【化1】〔式中、R1 、R2 及びR3 は、同一又は異なって、プロトンによる脱離性基を表す。a、b及びcは、それぞれ共重合体中の繰り返し単位(A)、(B)及び(C)の存在量(モル%)を表す。〕で表され、繰り返し単位(A)と繰り返し単位(B)及び/又は繰り返し単位(C)とを必須とし、重量平均分子量が2000〜30000である、プロトンによる脱離性基を有する共重合体であって、該プロトンによる脱離性基を有する共重合体における該a、b及びcは、aが5〜30モル%、かつ、b+cが70〜95モル%の要件を満たすことを特徴とするプロトンによる脱離性基を有する共重合体。

IPC (3)：

C08F 8/12 , C08F212/14 , C08F220:26

FI (3)：

C08F 8/12 , C08F212/14 , C08F220:26

F-Term (28)：

4J100AB07Q , 4J100AB07R , 4J100AL29P , 4J100AL31P , 4J100BA03H , 4J100BA03Q , 4J100BA04P , 4J100BA04R , 4J100BC01P , 4J100BC01R , 4J100BC02P , 4J100BC02R , 4J100BC03P , 4J100BC03R , 4J100BC04P , 4J100BC04R , 4J100BC07P , 4J100BC07R , 4J100BC09P , 4J100BC09R , 4J100BC15P , 4J100BC15R , 4J100BC53P , 4J100BC53R , 4J100CA05 , 4J100HA08 , 4J100HE07 , 4J100HE14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-308587 Applicant：株式会社日本触媒
アリルエーテル誘導体およびその製法並びに重合体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-279615 Applicant：株式会社日本触媒

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