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J-GLOBAL ID：200903018659622965

洗浄槽への純水供給方法および装置

Inventor： 大平 吉昭
Applicant, Patent owner： 川崎製鉄株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991307925
Publication number (International publication number)：1993144787
Application date： Nov. 22, 1991
Publication date： Jun. 11, 1993
Summary：

【要約】【目的】 半導体製造工程におけるウェーハを純水洗浄する際に生菌に汚染されずにかつ純水を節減し得る洗浄槽への純水供給方法および装置を提供する。【構成】 オーバフロー溝2a〜2dを有する複数の洗浄槽1a〜1dに循環ループ配管4からの純水を調節弁6a〜6dと流量計7a〜7dを遮断弁12a〜12dを接続した供給支管5a〜5dで供給し、オーバフロー溝2a〜2dに接続されるオーバフロー支管8a〜8dを三方切換弁13a〜13dを介して排水本管9に接続し、三方切換弁13a〜13dと供給支管5a〜5dを接続管14a〜14dを介して接続する。一方、弁切換調節計10において洗浄槽1a〜1dに取付けた水質検出器11a〜11dからの水質信号を入力して規定値と比較演算し、洗浄槽1a〜1dのいずれかの水質が規定値以下のときは該当する三方切換弁, 遮断弁を操作して、常に水質のよい純水を供給するようにする。

Claim (excerpt)：

オーバフロー方式の複数の洗浄槽を用いてウェーハを純水で洗浄する際の純水供給方法であって、前記洗浄槽の水質がいずれも規定値以内であるときは初段の洗浄槽のオーバフロー水をその次段以降の洗浄槽の洗浄水として順次供給して最終段の洗浄槽から排水するようにし、前記洗浄槽のいずれかの水質が規定値を超えたときは当該洗浄槽の前段の洗浄槽からのオーバフロー水を直接排水するとともに当該洗浄槽へは新たな純水を供給して最終段の洗浄槽から排水するようにしたことを特徴とする洗浄槽への純水供給方法。