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J-GLOBAL ID：200903018697110420

アミノ基、又は第四級アンモニウム基を有するベンザルマロネート誘導体及びその製造法、並びにこれを含有する紫外線吸収剤及び化粧料

Inventor： 星野 匡秀 ,  杉山 充 ,  川俣 章 ,  城倉 博子 ,  芋川 玄爾
Applicant, Patent owner： 花王株式会社
Agent (1)： 有賀 三幸 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994128745
Publication number (International publication number)：1995330693
Application date： Jun. 10, 1994
Publication date： Dec. 19, 1995
Summary：

【要約】【構成】 次の一般式(1)【化1】〔式中、R1 及びR2 は炭化水素基を、R3 はアルキル基を、Aはアルキレン基を、Yは第三級アミノ基又は第四級アンモニウム基を示し、nは0〜2の数を示す〕で表わされる化合物、その製造法、並びにこれを含有する紫外線吸収剤及び化粧料。【効果】 優れた紫外線吸収作用、光安定性及び水溶性に優れるため化粧料等に有用である。

Claim (excerpt)：

次の一般式(1)【化1】〔式中、R1 及びR2 は同一又は異なっていてもよい炭化水素基を示し、R3 は同一又は異なっていてもよいアルキル基を示し、nは0〜2の数を示し、Aはアルキレン基を示し、Yは次の一般式(2)、(3)又は(4)【化2】(式中、R4 、R5 、R6 は同一又は異なっていてもよいアルキル基を示し、R7 は基-(CH2)pSO3-又は基-(CH2)pCO2-(ここで、pは1〜4の数を示す)を示し、Xはハロゲン原子、アルキルスルフェート、アルキルスルホネート又はアリールスルホネートを示す)で示される基を示す〕で表わされるベンザルマロネート誘導体。

IPC (5)：

C07C217/08 ,  A61K 7/42 ,  C07C 69/00 ,  C07C 69/593 ,  C09K 3/00 104