Pat

J-GLOBAL ID：200903018714830092

放射線感応性高分子化合物

Inventor： 鈴木 祥生 ,  赤岩 俊行 ,  新 祐治
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992063113
Publication number (International publication number)：1993265209
Application date： Mar. 19, 1992
Publication date： Oct. 15, 1993
Summary：

【要約】【構成】 この発明は、側鎖の末端として芳香環にアミノメチル基が結合した構造とフェノール構造とを含むものであって、両者の割合が側鎖の末端として芳香環にアミノメチル基の結合した構造:1〜90個、フェノール構造:10〜99個である重量平均分子量500〜1,000,000の放射線感応性高分子化合物である。【効果】 この高分子化合物は、紫外線、遠紫外線、X線、電子線、イオンビームなどの放射線に対して高感度、高解像度を与えるので集積回路作製のためのレジストとして使用することができる。

Claim (excerpt)：

下記の二つの構造を必須構成要素として含むことを特徴とする放射線感応性高分子化合物。(1)フェノール性水酸基(2)下記の原子団【化1】(ここにR1 、R2 は水素原子または炭素数1〜4個の炭化水素、Arは炭素数1〜10のアルキル、アルケニル、アルキニル、ハロゲン置換炭化水素、アルコキシ、アルコキシカルボニル、カルバモイル、水酸基、スルホ、ニトロ、アミノ、シアノおよびハロゲンの群から選ばれる少なくとも1つで置換されていてもよい芳香族環)、またはその有機酸もしくは無機酸との塩。

IPC (2)：

G03F 7/038 505 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平1-289945
  
• 特開昭63-281152
  
• 特開平4-077742
  
• 特開昭49-096733